【品川区中小企業支援メルマガ】第271号/展示会出展費用・知的財産権取得費用助成のお知らせ等

更新日:2019年10月01日

【品川区中小企業支援メルマガ】第271号 展示会出展費用・知的財産権取得費用助成のお知らせ等 送信元:品川区商業・ものづくり課 (電話)03−5498−6333

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 品川区中小企業支援メールマガジン 第271号 2016年10月25日

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 編集発行:品川区商業・ものづくり課

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 本メールは品川区ものづくり支援サイト登録企業を主な対象としたメールマガジンです

 品川区ものづくり支援サイト

 URL:http://www.mics.city.shinagawa.tokyo.jp/

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■目次

1.商業・ものづくり課インフォメーション

  ・国内・海外展示会出展費用助成のお知らせ

  ・知的財産権取得費用助成のお知らせ

2.その他インフォメーション

  ・文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業

    微細加工プラットフォーム

    「薄膜実践セミナー�U」開催のお知らせ

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         1.商業・ものづくり課インフォメーション 

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         国内・海外展示会出展費用助成のお知らせ

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 国内・海外で開催される展示会の出展費用等に要する費用の一部を助成します。

 【助成額】

 ○国内展示会 … 最大20万円(対象経費の2/3)

 ○海外展示会 … 最大50万円(対象経費の2/3)

  ※申請件数等を考慮し、予算の範囲内で区が助成額を決定します。

 【対象者】

 区内に1年以上主な事業所を置く中小製造業・情報通信事業者 ※みなし大企業を除く。

 【対象展示会】

 平成28年4月1日から平成29年3月31日までに国内・海外で開催される展示会

 【対象経費】

 平成29年3月31日までに支払が完了する以下のもの。

 ○国内展示会 … 出展スペース料

 ○海外展示会 … 出展スペース料、展示品等運送費・保険料、通訳人件費

 【申請期間】

 平成28年11月1日(火)〜11月30日(水) ※必着

 >詳細・申請書ダウンロードはこちら

 http://www.mics.city.shinagawa.tokyo.jp/jyosei/tenji.php

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     問い合わせ・申込み:品川区商業・ものづくり課企業支援係

     TEL:5498−6333 FAX:5498−6338  

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           知的財産権取得費用助成のお知らせ

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 知的財産権取得に対し、要した費用の一部を助成します。

 【助成額】

 最大20万円(対象経費の2/3)

 ※申請件数等を考慮し、予算の範囲内で区が助成額を決定します。

 【対象者】

 区内に1年以上主な事業所を置く中小製造業・情報通信事業者 ※みなし大企業を除く。

 【対象知的財産権】

 特許権、実用新案権、意匠権、商標権

 【対象経費】

 国内における上記の知的財産権取得に要する弁理士費用、特許庁費用

 (出願料、審査請求料、審判請求料、特許料、登録料)のうち、

 平成28年4月から平成29年3月までの期間に支払が完了するもの

 【申請期間】

 平成28年11月1日(火)〜11月30日(水) ※必着

 >詳細・申請書ダウンロードはこちら

 http://www.mics.city.shinagawa.tokyo.jp/jyosei/titeki.php

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     問い合わせ・申込み:品川区商業・ものづくり課企業支援係

     TEL:5498−6333 FAX:5498−6338  

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             2.その他インフォメーション

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        文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業

        微細加工プラットフォーム

        「薄膜実践セミナー�U」開催のお知らせ

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 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF) は、「薄膜実践セミナー�U」を、

2016年11月15日(火)に産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。

 前半は、スパッタ堆積法による機能性薄膜、後半は、2次元半導体材料等について取り

上げます。オーサーズ・インタビューの時間を設けましたので、講師の方々に個別に

質問をすることが可能です。

 後日行われる実習では、NPFの装置を使用してSrTiO3誘電体薄膜形成・熱処理と、

結晶性・電気特性評価などを盛り込み、機能性薄膜開発の基礎的なスキルを獲得して

いただけるように期待しています。

 多くの皆様のご参加をお待ちしています。

<講義>

【日時】 平成28年11月15日(火)12:55‐17:30

【場所】 産業技術総合研究所つくば中央2‐12棟第6会議室

     https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h28-3/index.html

【参加費】無料

【定員】 90 名(先着順、参加登録をお願いします)

【セミナー案内/申し込み】

     https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h28-1/index.html

【プログラム】

 12:55-13:00 「はじめに」 産業技術総合研究所 共用施設ステーション 多田哲也

 13:00-13:40 「スパッタリングで作る機能性超格子薄膜とその応用

            〜相変化メモリからトポロジカル絶縁体まで〜」

         産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門 富永淳二

 13:40-14:20 「機能性酸化物材料のスパッタリング」

         株式会社アルバック超材料研究所 水野雄介

 14:20-14:50 「スパッタリング法によるMgNbAlN圧電薄膜の開発」

         産業技術総合研究所 製造技術研究部門 上原雅人

 14:50-15:10  休憩(オーサーズインタビュー)

 15:10-15:40 「プラズマCVDを用いたグラフェンの合成、評価、デバイス応用」

         産業技術総合研究所 ナノ材料研究部門 沖川侑揮

 15:40-16:10 「2次元層状半導体MoS2のMOSFET応用」

         産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門 森 貴洋

 16:10-16:25 「ナノプローバーによるHall効果測定」

         産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設(NPF) 大塚照久

 16:25-16:40 「原子層堆積(ALD)装置の利用事例

         〜Al2O3ゲート絶縁膜、TiO酸化物チャンネル、NbN超伝導膜〜」

         産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設(NPF) 山崎将嗣

 16:40-17:00 オーサーズインタビュー

<実習>

【日時】 平成28年12月〜平成29年2月の間の3日間

【場所】 産業技術総合研究所つくば中央2-12棟ナノプロセシング施設(NPF)

【参加費】50,000円/人

【定員】 3 名(同時に実施します)

【案内・申し込み】

     https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h28-3/article/index.html

お問合せ先:

国立研究開発法人 産業技術総合研究所

TIA推進センター 共用施設運営ユニット・共用施設ステーション

ナノプロセシング施設

電子メール:tia-npf-school3@aist.go.jp

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ご質問・お申込み等は、各々の問い合わせ先までご連絡ください。

下記メールアドレスへは送信しないでください。

この記事に関するお問い合わせ先

地域産業振興課

〒141-0033
東京都品川区西品川1-28-3
電話番号:03-5498-6340 ファックス番号:03-5498-6338